Une étude de la cristallisation de champ dans les condensateurs au tantale et son effet sur le DCL et la fiabilité
Écrit par : T.Zednicek | J. Sikula | H. Leibovitz Résumé:
Le tantale est la technologie de condensateur préférée pour une utilisation dans les appareils électroniques à longue durée de vie grâce à la stabilité de ses paramètres électriques et à sa grande fiabilité. Les mesures des performances du taux de défaillance au fil du temps montrent un nombre décroissant de défaillances, ce qui entraîne pratiquement aucune usure, contrairement à certaines autres technologies de condensateurs. Comme dans pratiquement tout matériau à des températures supérieures au zéro absolu, il existe des processus qui peuvent conduire à une détérioration du condensateur, il existe également des processus d'auto-guérison plus efficaces qui entraînent une réduction globale du taux de défaillance. Malgré ce phénomène, il existe certains mécanismes de dégradation connus – cristallisation sur champ du diélectrique amorphe Ta2O5 et migration de l'oxygène [14]. Cet article résume l'état actuel des connaissances concernant la cristallisation de champ, en se concentrant sur les facteurs d'accélération et les effets pratiques de la cristallisation de champ par rapport au DCL et à la fiabilité des condensateurs au tantale. TÉLÉCHARGER LE DOCUMENT TECHNIQUE
Le tantale est la technologie de condensateur préférée pour une utilisation dans les appareils électroniques à longue durée de vie grâce à la stabilité de ses paramètres électriques et à sa grande fiabilité. Les mesures des performances du taux de défaillance au fil du temps montrent un nombre décroissant de défaillances, ce qui entraîne pratiquement aucune usure, contrairement à certaines autres technologies de condensateurs. Comme dans pratiquement tout matériau à des températures supérieures au zéro absolu, il existe des processus qui peuvent conduire à une détérioration du condensateur, il existe également des processus d'auto-guérison plus efficaces qui entraînent une réduction globale du taux de défaillance. Malgré ce phénomène, il existe certains mécanismes de dégradation connus – cristallisation sur champ du diélectrique amorphe Ta2O5 et migration de l'oxygène [14]. Cet article résume l'état actuel des connaissances concernant la cristallisation de champ, en se concentrant sur les facteurs d'accélération et les effets pratiques de la cristallisation de champ par rapport au DCL et à la fiabilité des condensateurs au tantale.
